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专利总数:42条,更新日期:2018.01.20| 标记/翻译总数:1212条

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200910307692.3 C23C14/24(2006.01)I C14/24(2006.01)I 102031485A 2011-04-27 林圣来
  本发明提供一种蒸发源,其包括一电极组件以及多层用于支撑蒸镀材料的支撑单元,该电极组件包括四间隔设置的电极杆,该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置,每层支撑单元包括四向不同方向伸出的支撑架,每一支撑架分别由相邻的二电极杆上各伸出一支撑臂组成,且靠近该电极杆两端位置的支撑单元较位于该电极杆中部位置的支撑单元密集。本发明还提供一种使用上述蒸发源的蒸镀装置。
软性基板镀膜治具【法律状态】
200810304671.1 C23C14/52(2006.01)I C14/52(2006.01)I 101684546 2010-03-31 黄建豪
  本发明涉及一种软性基板镀膜治具,其用于支撑一待镀膜的软性基板。该软性基板镀膜治具包括至少一个转动体、一个用于活动架设该转动体的支架及一个电机。该待镀膜的软性基板首尾相接并包覆该转动体。该电机包括一个转轴,该转轴固定在该至少一个转动体的一端。该转轴带动该转动体转动,以通过该待镀膜的软性基板带动该至少一个转动体转动,从而使待镀膜的软性基板进行移动镀膜,起到模仿磁控溅镀机台的效果,易于确定镀膜参数同时提高了镀膜参数的精度。
壳体及其制备方法【法律状态】
201110147463.7 C23C14/35(2006.01)I C14/35(2006.01)I 102808160A 2012-12-05 曹达华;刘旭
  本发明提供一种壳体,包括基材及形成于基材表面的类金刚石层,该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。本发明所述类金刚石层光亮致密,具有良好的外观装饰效果且其耐刮伤、抗磨损及耐腐蚀性能优异。本发明还提供一种上述壳体的制备方法。
溅镀装置及溅镀方法【法律状态】
201010161106.1 C23C14/34(2006.01)I C14/34(2006.01)I 102234769A 2011-11-09 凌维成
  本发明涉及一种溅镀装置,其包括用来承载装载有待镀工件的料杆的料杆固定架,其中,该料杆的一端沿径向生长有凸杆,该料杆固定架设置有定位座,该定位座具有一用来收容该料杆生长有凸杆的一端的空心凸柱及连杆机构,该定位座通过该连杆机构对该料杆进行固定并带动该料杆进行自转。与现有技术相比,该溅镀装置通过连杆机构来对料杆进行固定,使得料杆能够快速的进行安装或者拆卸,从而大大提高了溅镀制程的效率。本发明还涉及一种溅镀方法。
真空镀膜机【法律状态】
200910303404.7 C23C14/56(2006.01)I C14/56(2006.01)I 101928930A 2010-12-29 蔡泰生
  一种真空镀膜机,其包括装载腔室、镀膜腔室及卸载腔室,镀膜腔室两端具有入料口及出料口。装载腔室与入料口连接,装载腔室内设装载架、第一驱动机构及传输装置。装载架承载多个水平放置的相互平行排列的载盘,第一驱动机构固定于装载腔室内,第一驱动机构与装载架相连接,并驱动装载架做下降运动,且能够将各载盘对准入料口,传输装置将对准入料口的载盘运入入料口。卸载腔室与出料口连接,卸载腔室内设卸载架及第二驱动机构。卸载架用于将从出料口出来的多个载盘按层水平排列,第二驱动机构固定于卸载腔室内,第二驱动机构与卸载架相连接,并驱动卸载架做上升运动。该发明的真空镀膜机在装载及卸载时均批量进行,可有效减少人力及提高生产效率。
坩埚及真空蒸镀系统【法律状态】
200910302893.4 C23C14/24(2006.01)I C14/24(2006.01)I 101906610A 2010-12-08 裴绍凯
  本发明提供一种坩埚,用于放置颗粒状膜料;所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道;所述底板上设置有一载料区,用于承载颗粒状膜料;所述侧壁垂直固设于底板边缘,并与所述底板形成一容置空间;所述每个通风管道包括一进气端和一出气端;多个通风管道容置于所述容置空间内,且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通,出气端朝向于底板并围绕所述载料区分布。本发明通过通风管道对放置于载料区的颗粒状膜料进行加热,去除膜料间所含有的水气,从而有效保证了镀膜质量。本发明还提供一种真空蒸镀系统。
镀膜装置【法律状态】
200910302600.2 C23C14/34(2006.01)I C14/34(2006.01)I 101899642A 2010-12-01 裴绍凯
  一种镀膜装置,其包括镀膜室及设置在该镀膜室内的靶材承载装置及基材承载装置。靶材承载装置包括本体及至少一个靶材座,本体内开设溅射腔,该本体具有环绕溅射腔的内侧壁。靶材座设于内侧壁上。基材承载装置设于溅射腔内,其包括至少一个基材座。镀膜装置还包括第一驱动装置和第二驱动装置。第一驱动装置与基材承载装置连接,用于驱动基材承载装置相对于靶材承载装置旋转。第二驱动装置与靶材承载装置连接,用于驱动靶材承载装置绕溅射腔旋转。该镀膜装置通过使基材承载装置相对于靶材承载装置旋转,从而使基材的不同待镀表面均可朝向靶材,以提高膜层的均匀度。而且,由于靶材承载装置可以绕溅射腔旋转,因此可使各靶材消耗程度比较均匀。
镀膜机【法律状态】
200910302939.2 C23C14/24(2006.01)I C14/24(2006.01)I 101906611A 2010-12-08 裴绍凯
  本发明提供一种镀膜机,该镀膜机用于将待镀液体镀到至少一块基板上。所述镀膜机包括容器、转子及加热器,所述容器包括侧壁,所述至少一块基板固定于所述侧壁上,所述容器设置有入液口及排气口,待镀液体通过所述入液口注入所述容器内,所述转子用于带动所述待镀液体沿所述侧壁的圆周方向旋转,使得待镀液体覆盖所述基板,所述加热器加热所述基板,用于将所述基板表面的待镀液体蒸发,在所述基板表面形成膜结构。本发明提供的镀膜机由于可以在所述侧壁固定多块基板,所以可以同时对多块基板进行镀膜,由此大大的提高了镀膜效率。
镀膜装置【法律状态】
200810301697.0 C23C14/50(2006.01)I C14/50(2006.01)I 101586231 2009-11-25 颜士杰
  本发明提供一种镀膜装置,其包括壳体及安装在壳体内的工件承载架、蒸镀源、电子枪、修正板,所述工件承载架设置有多个容置通孔,用于承载待镀膜工件,所述蒸镀源与所述工件承载架相对而设,所述修正板具有相对的第一面和第二面,所述第一面与对应的蒸镀源相对设置,所述第二面与工件承载架相对,所述镀膜装置进一步包括光源和检测装置,所述光源设置于修正板的第二面,所述检测装置与光源相对设置,使得所述光源发出的光线通过容置通孔内的工件而到达检测装置。
光学镀膜装置【法律状态】
200810302041.0 C23C14/24(2006.01)I C14/24(2006.01)I 101597747 2009-12-09 王仲培
  一种光学镀膜装置,所述光学镀膜装置包括转动轴及多个基板,所述多个基板一端与所述转动轴铰接,所述多个基板以转动轴为中心呈伞状分布,所述光学镀膜装置还包括一个连接于所述转动轴与基板之间的倾角调整装置,所述倾角调整装置包括角度调整件、第一转动件及第二转动件,所述第一转动件及所述第二转动件相铰接,所述角度调整件通过改变所述第一转动件及所述第二转动件之间的角度,改变所述多个基板相对所述转动轴的倾斜角度。本发明所提供的光学镀膜装置,可以通过调整倾角调整装置来调整所述基板相对所述转动轴的倾斜角度,从而校正每次固定时基板相对蒸发源的偏差,以此提高镀膜的良率。
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